2021哈爾濱理工大學(xué)材料分析測試技術(shù)研究生考試大綱
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2021哈爾濱理工大學(xué)材料分析測試技術(shù)研究生考試大綱 正文
材料分析測試技術(shù)
適用專業(yè)名稱:材料物理與化學(xué)
參考書目:
《材料分析測試技術(shù)》,周玉、 武高輝,哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社,2007年;
《材料分析測試技術(shù)》,齊海群,北京大學(xué)出版,2010年;
《材料分析測試方法》黃新民、解挺,國防工業(yè)出版社,2006年。
一、考試目的與要求
測試考生掌握材料分析測試技術(shù)的基本原理和基本方法,以及采用x射線衍射和電子顯微鏡來分析材料的微觀組織結(jié)構(gòu)與顯微成分的能力。要求考生全面系統(tǒng)地掌握材料現(xiàn)代檢測技術(shù)(x射線衍射技術(shù)及在材料中的應(yīng)用、電子顯微分析技術(shù)及在材料中的應(yīng)用)的基本概念和基本原理,并能夠?qū)驹磉M(jìn)行靈活運(yùn)用,具有較強(qiáng)的材料檢測分析問題、解決問題的能力。
二、試卷結(jié)構(gòu)(滿分100分)
內(nèi)容比例:
x射線衍射技術(shù) 約50分
電子顯微分析技術(shù) 約50分
題型比例:
1.概念題 約30分
2.簡答題 約40分
3.計算題 約10分
4.綜合分析題 約20分
三、考試內(nèi)容與要求
(一)X射線分析測試技術(shù)
考試內(nèi)容
X射線性質(zhì),X射線方向,X射線衍射強(qiáng)度,X射線物相分析,多晶體分析方法,宏觀應(yīng)力的測定。
考試要求
1. 了解X射線的產(chǎn)生、X射線與物質(zhì)相互作用時產(chǎn)生的各種物理效應(yīng);
2. 掌握布拉格方程和倒易點陣,能夠運(yùn)用Ewald圖解進(jìn)行衍射分析、能計算各種不同空間點陣的晶體、有序-無序固溶體以及粉末多晶的結(jié)構(gòu)因子和X射線衍射強(qiáng)度;
3. 掌握德拜照相法和X射線衍射儀法的基本原理、了解其實驗裝置、掌握其試樣制備方法和實驗方法;
4. 熟練掌握X射線衍射在點陣常數(shù)的精確測定、多晶體物相分析、宏觀應(yīng)力的測定、晶粒大小的測定、單晶體取向的測定等方面的應(yīng)用。
(二)電子顯微分析技術(shù)
考試內(nèi)容
電子衍射,電子顯微圖像,透射電子顯微鏡,晶體薄膜衍襯成像分析,掃描電子顯微鏡。
考試要求
1. 掌握電子衍射基本原理及衍射基本公式、有效相機(jī)常數(shù)。
2. 熟悉單晶、多晶和非晶體的電子衍射圖特征;
3. 了解兩種選區(qū)衍射方法(光闌選區(qū)衍射和微束選區(qū)衍射),
5. 掌握單晶以及多晶電子衍射花樣的標(biāo)定方法和標(biāo)定步驟;
6. 了解復(fù)雜衍射花樣(高階勞厄斑點,超點陣斑點,二次衍射斑點,孿晶斑點,菊池線);
7. 理解電子顯微圖像的質(zhì)厚襯度原理;
8. 理解衍射襯度原理、掌握衍襯運(yùn)動學(xué)理論并能做簡單的衍射波強(qiáng)度計算、熟悉衍襯圖像的基本特征;
9. 理解高分辨透射電子顯微術(shù)的相位襯度原理;
10. 熟練掌握透射電子顯微鏡的基本結(jié)構(gòu)、工作原理以及樣品制備方法;
11.理解電子束與固體樣品作用時產(chǎn)生的信號,了解掃描電子顯微鏡的構(gòu)造、性能參數(shù)和工作原理;熟悉掃描電子顯微鏡樣品的制備方法;
12. 掌握二次電子成像原理和二次電子形貌襯度的應(yīng)用、掌握原子序數(shù)襯度原理及其應(yīng)用、掌握背散射電子襯度原理及其應(yīng)用;
13. 了解STM和AFM的分析測試原理、掌握STM和AFM在材料分析工作中的應(yīng)用。
哈爾濱理工大學(xué)
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