山東大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院導(dǎo)師：歐陽(yáng)俊 正文

　　姓名 歐陽(yáng)俊 出生年月 1976.4
　　性別 男 學(xué)歷: 博士
　　專業(yè)技術(shù)職務(wù) 博導(dǎo) 博導(dǎo)聘任時(shí)間 2010
　　行政職務(wù) 學(xué)術(shù)團(tuán)體兼職
　　學(xué)術(shù)身份 齊魯青年學(xué)者
　　
　　學(xué)習(xí)和工作經(jīng)歷
　　2010.4至今 山東省“齊魯青年學(xué)者”特聘教授。
　　2008.8 - 2010.4美國(guó)希捷科技, 研究與技術(shù)發(fā)展部，研發(fā)主管工程師，先進(jìn)電子材料(介電/鐵電/壓電/多鐵性等材料)的研究開(kāi)發(fā)。
　　2005.6–2008.7美國(guó)希捷科技磁頭運(yùn)營(yíng)中心, 高級(jí)工程師，高密度高容量磁記錄存儲(chǔ)系統(tǒng)的開(kāi)發(fā)。
　　2004.9–2005.8美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量局，客座研究員，鐵電及多鐵功能材料的研究。
　　2002.8–2005.8 美國(guó)馬里蘭大學(xué)科里奇帕克分校，材料科學(xué)與工程系，博士，鐵電/壓電功能材料。
　　2000.8–2002.8美國(guó)馬里蘭大學(xué)科里奇帕克分校，材料科學(xué)與工程系，碩士，薄膜智能材料理論。
　　2000.1–2000.7朗訊貝爾實(shí)驗(yàn)室，陶瓷組表面分析中心，研究生實(shí)習(xí)研究員，功能陶瓷及表面科學(xué)。
　　1994.9–1999.7清華大學(xué)，材料科學(xué)與工程系，工程學(xué)士，方向：陶瓷科學(xué)。
　　
　　研究領(lǐng)域介紹
　　學(xué)科專業(yè)：材料學(xué)
　　研究方向：無(wú)機(jī)非金屬材料
　　研究?jī)?nèi)容：
　　功能陶瓷薄膜及涂層的研究，特別是應(yīng)用于能量轉(zhuǎn)換與存儲(chǔ)、微電子、微電子機(jī)械系統(tǒng)及感應(yīng)器技術(shù)，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和遠(yuǎn)程通訊等領(lǐng)域的薄膜或多層功能陶瓷材料。 這些材料主要包括鐵電/壓電薄膜材料，光熱涂層、光電、熱電轉(zhuǎn)化/儲(chǔ)能材料，高性能電介質(zhì)材料，多鐵性材料, 鐵磁材料等。
　　高度離子化物理氣相沉積(high-ionization PVD/I-PVD)陶瓷薄膜及硬質(zhì)合金材料。
　　納米科學(xué)與納米技術(shù) (Nanoscience and Nanotechnology)，包括納米制造 (Nano- fabrication)，納米材料及納米器件中的結(jié)構(gòu)-性能關(guān)系研究，用掃描探針顯微鏡測(cè)試材料納米尺度的結(jié)構(gòu)及性能等。
　　結(jié)合計(jì)算熱力學(xué)，固體力學(xué)以及應(yīng)變工程/彈性束縛工程(Strain/Constrain Engineering)方法，對(duì)薄膜或多層材料進(jìn)行設(shè)計(jì)以優(yōu)化其物理性能。
　　梯度功能材料，特別是可用于制造新一代傳感器(Sensors)，微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)和微電子設(shè)備(Microelectronics) 的梯度功能電子材料。
　　講授課程：1、專業(yè)英語(yǔ)（無(wú)機(jī)非金屬專業(yè)）。
　　
　　取得科研成果情況
　　2004-至今，25篇SCI/EI學(xué)術(shù)論文（22篇SCI收錄）。SCI收錄文章的平均影響因子3.35. 總引用次數(shù)超過(guò)200次。
　　已申報(bào)3項(xiàng)美國(guó)發(fā)明專利，獲授權(quán)1項(xiàng)；申報(bào)2項(xiàng)國(guó)內(nèi)發(fā)明專利，公示1項(xiàng)。
　　特邀學(xué)術(shù)報(bào)告20余次，邀請(qǐng)單位包括美國(guó)希捷科技，美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量局，美國(guó)馬里蘭大學(xué)科里奇帕克分校，美國(guó)德州大學(xué)阿靈頓分校，美國(guó)弗吉尼亞聯(lián)邦大學(xué)，香港城市大學(xué)，清華大學(xué)，哈爾濱工業(yè)大學(xué)，山東大學(xué)，中南大學(xué)，華中科技大學(xué)，北京科技大學(xué)等國(guó)內(nèi)外公司，大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)。
　　2004-至今，參與10余次國(guó)際學(xué)術(shù)會(huì)議，在24篇學(xué)術(shù)會(huì)議報(bào)告中作出貢獻(xiàn)，作為第一作者(First author) 及協(xié)作者(co-author) 各12次。

　　代表性學(xué)術(shù)論文：
　　(1) Ouyang J et al. Thermodynamics of formation of tetragonal and rhombohedral heterophase polydomains in epitaxial ferroelectric thin films. Acta Mater., 59, 3779 (2011).
　　(2) Jun Ouyang, et al. “Engineering Self-Assembled Domain Architecture with Ultra-high Piezoelectric Response in Epitaxial Ferroelectric Films”, Advanced Functional Materials, 17 (13), 2094 (2007).
　　(3) Jun Ouyang, and A. L. Roytburd, “Intrinsic effective piezoelectric coefficients of an epitaxial ferroelectric film”, Acta Materialia, 54, 531 (2006).
　　(4) Jun Ouyang, S. Y. Yang, L. Chen, R. Ramesh, and A. L. Roytburd, “Orientation dependence of the converse piezoelectric constants for epitaxial single domain ferroelectric films”.Appl. Phys.Lett., 85, 278 (2004).
　　(5) Lang Chen, J. Ouyang, C. S. Ganpule, V. Nagarajan, R. Ramesh, and A. L. Roytburd, “Formation of 90° elastic domains during local 180° switching in epitaxial ferroelectric thin films”. Appl. Phys. Lett., 84, 254 (2004).
　　
　　獎(jiǎng)勵(lì)及榮譽(yù) (Honors and Awards)
　　1 山東大學(xué)“齊魯青年學(xué)者”特聘教授，2009年12月底批準(zhǔn)。
　　2 應(yīng)用物理導(dǎo)報(bào) (Applied Physics Letters) 審稿人 (2008年始)。
　　3 美國(guó)希捷科技，技術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng)(2008年，2009年)。
　　4 美國(guó)希捷科技，年度工作優(yōu)異獎(jiǎng)(2007-2008年度)。
　　5 應(yīng)用物理雜志(Journal of Applied Physics) 審稿人 (2006年始)。
　　6 馬里蘭大學(xué)工程學(xué)院校友成就獎(jiǎng)，2006年。
　　7 2005年度國(guó)家優(yōu)秀自費(fèi)留學(xué)生獎(jiǎng)學(xué)金 (國(guó)家留學(xué)基金委，全美授獎(jiǎng)54 人, 其中材料科學(xué)與工程學(xué)科僅4人)，2006年。
　　(有關(guān)自費(fèi)留學(xué)生 獎(jiǎng)學(xué)金：http://www.sino-education.org/award/zifeiaward.htm)，2005年 獲獎(jiǎng)名單： (http://www.sino-education.org/award/2005banjiang.htm)
　　8 馬里蘭大學(xué)杰出研究生雇員提名獎(jiǎng) (“Outstanding Graduate Student Employeeof the Year”, 5 out of 10,000+)，2005年。
　　9 美國(guó)陶瓷協(xié)會(huì)國(guó)際陶瓷圖像競(jìng)賽掃描探針顯微鏡組，第一名和第二名作品(皆為第一作者)，2005年。
　　10 美國(guó)國(guó)家科學(xué)基金(NSF)助研獎(jiǎng)學(xué)金，2002-2005年。
　　11 美國(guó)空軍基礎(chǔ)研究(Air Force Foundation)助研獎(jiǎng)學(xué)金， 2001-2002年。
　　12 美國(guó)馬里蘭大學(xué)全額助教獎(jiǎng)學(xué)金，2000-2001年。
　　13 清華大學(xué)優(yōu)秀學(xué)生獎(jiǎng)學(xué)金，1995-1997年。
　　14 清華大學(xué)優(yōu)秀新生，免試錄取加獎(jiǎng)學(xué)金，1994年。

　　在薄膜功能材料的物理性能方面作出了開(kāi)拓性質(zhì)的工作，第一次定量計(jì)算并用實(shí)驗(yàn)證明了鐵電外延薄膜材料壓電性能對(duì)其生長(zhǎng)取向的依賴性，并預(yù)測(cè)了常用的不同鐵電材料系統(tǒng)的有效壓電系數(shù)，指出怎樣通過(guò)優(yōu)化取向獲得優(yōu)異的本征 (Intrinsic) 或非本征(extrinsic) 壓電性能。使用的模型及實(shí)驗(yàn)方法適用于優(yōu)化設(shè)計(jì)其他功能薄膜材料的物理性能，如非鐵電壓電薄膜(石英等)的壓電性，鐵電薄膜的介電性、熱釋電和電熱效應(yīng)，鐵磁薄膜的磁致伸縮性，多鐵性薄膜或多層材料的電磁耦合性等。
　　耐候性太陽(yáng)能選擇性吸收涂層的研制-平板太陽(yáng)能集熱器是太陽(yáng)能光熱產(chǎn)業(yè)升級(jí)換代的核心器件，具有極其巨大的發(fā)展空間，新一代平板太陽(yáng)能集熱器的研制、開(kāi)發(fā)和推廣，離不開(kāi)其核心材料-太陽(yáng)能光熱吸收涂層在耐候性和綠色生產(chǎn)技術(shù)方面的突破。通過(guò)前期工作和交流，歐陽(yáng)俊教授領(lǐng)導(dǎo)的研究組與桑樂(lè)太陽(yáng)能在2011年5月掛牌成立了太陽(yáng)能選擇性吸收涂層聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室，并簽訂了耐候性光熱吸收涂層研究方向的長(zhǎng)期合作意向協(xié)議。該研究方向同時(shí)也獲得了山東大學(xué)自主創(chuàng)新基金導(dǎo)向類(lèi)重大項(xiàng)目的支持（2011.6-2013.12，60萬(wàn)元）。
　　工業(yè)用先進(jìn)電子材料(介電材料/壓電材料/碳基材料)的研究與開(kāi)發(fā)，電子陶瓷薄膜在硅基片上的中溫制備，高離子化濺射鍍膜技術(shù)等。
　　鐵電疇研究-包括鐵電疇的結(jié)晶學(xué)與熱力學(xué)，定性及定量測(cè)量 (Piezoelectric force microscopy,X-ray, etc)，納米尺度鐵電疇形貌及動(dòng)力學(xué)，疇對(duì)鐵電體(尤其是鐵電薄膜)物理性能的影響，包括介電、鐵電、壓電、熱釋電及機(jī)械性能等。
　　多相多疇薄膜功能材料(包括鐵電、鐵磁、鐵彈等鐵性材料以及多鐵性材料)的熱力學(xué)，及通過(guò)應(yīng)變工程/彈性束縛工程方法(Strain/Constraint Engineering)以獲得優(yōu)化的薄膜結(jié)構(gòu)與性能。

　　承擔(dān)科研項(xiàng)目情況
　　起止時(shí)間
　　項(xiàng)目名稱
　　項(xiàng)目性質(zhì)和來(lái)源
　　經(jīng)費(fèi)總額
　　參與人數(shù)
　　
　　2009.12- 2013.12
　　齊魯青年學(xué)者學(xué)科建設(shè)
　　山東大學(xué)985基金
　　100萬(wàn)元
　　1人
　　
　　2011.6- 2013.12
　　新一代平板型太陽(yáng)能集熱器耐候性光熱吸收涂層的磁控濺射制備
　　山東大學(xué)自主創(chuàng)新基金導(dǎo)向類(lèi)重大項(xiàng)目
　　60萬(wàn)元
　　10人
　　
　　2011.1- 2013.12
　　多疇鐵電薄膜的非本征壓電性能的研究
　　國(guó)家自然科學(xué)基金
　　20萬(wàn)元
　　8人
　　
　　2011.5- 2012.5
　　耐候性太陽(yáng)能選擇吸收光熱涂層的研制（與桑樂(lè)太陽(yáng)能合作項(xiàng)目一期）
　　山東桑樂(lè)太陽(yáng)能有限公司，橫向合作課題
　　20萬(wàn)元
　　5人
　　
　　2010.10- 2013.10
　　自組裝混合相鐵電薄膜的壓電效應(yīng)的研究
　　優(yōu)秀中青年科學(xué)家科研獎(jiǎng)勵(lì)基金，山東省科技廳
　　6萬(wàn)元
　　8人
　　
　　2011.1- 2012.12
　　與CMOS工藝兼容的鈦酸鋇薄膜的中低溫制備
　　清華大學(xué)新型陶瓷與精細(xì)工藝國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開(kāi)放課題
　　3萬(wàn)元
　　5人

　　*如果發(fā)現(xiàn)導(dǎo)師信息存在錯(cuò)誤或者偏差，歡迎隨時(shí)與我們聯(lián)系，以便進(jìn)行更新完善。

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